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详细说明
型号：
PVD-100
范围：
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高真空磁控溅射系统
技术参数：
1高真空腔体：2个腔体,包括负荷锁及Sputtering,极限真空，极限压力<5e-9 Torr
2排气速率：从ATM到1E-7 Torr<20分钟(负载锁)
3样品台：**4寸Wafer，可加热RT-300ºC
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厦门韫茂科技有限公司
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主营： 公斤级粉体原子层沉积镀膜系统 单腔型高真空蒸镀系统 桌面型原子层沉积系统 超高真空多腔体磁控溅射系统 双腔型高真空高速蒸镀系统 高真空等离子体