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详细说明
型号：
CAS 14808-60-7 纳米氧化硅抛光粉
范围：
30-50nm
CAS 14808-60-7 纳米氧化硅抛光粉 二氧化硅抛光粉二氧化硅抛光粉通过物理磨削作用，有效去除材料表面的微小凹凸，显著提高产品表面的光洁度和镜面效果，适用于电子、光学等对表面质量要求较高的领域。
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CAS 14808-60-7 纳米氧化硅抛光粉 二氧化硅抛光粉二氧化硅抛光粉通过物理磨削作用，有效去除材料表面的微小凹凸，显著提高产品表面的光洁度和镜面效果，适用于电子、光学等对表面质量要求较高的领域。
