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详细说明
型号：
MOCVD石墨盘
随着化合物半导体器件（如GaAsMMIC、InPMMIC以及GaN蓝光LED）市场的不断扩大，MOCVD系统的应用不断增长。
产品描述
在MOCVD反应设备外延涂层工艺中，MOCVD基座材料的性能对于涂层有着非常重要的影响。基座石墨材料选择和加工工艺，对于SiC涂层有紧密影响。包括材料的纯度、硬度、热膨胀系数和导热率，都是非常重要的因素。
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随着化合物半导体器件（如GaAsMMIC、InPMMIC以及GaN蓝光LED）市场的不断扩大，MOCVD系统的应用不断增长。
产品描述
在MOCVD反应设备外延涂层工艺中，MOCVD基座材料的性能对于涂层有着非常重要的影响。基座石墨材料选择和加工工艺，对于SiC涂层有紧密影响。包括材料的纯度、硬度、热膨胀系数和导热率，都是非常重要的因素。
