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详细说明
型号:
TEM離子研磨機 Unimill
離子能量範圍*廣:使用超高能量和低能量氬氣氣體離子源,從100 eV到16 keV
使用同一儀器快速進行溫和的拋光/清潔
全自動離子源設置和離子磨機操作
可為熱敏感樣品座選配液氮冷卻
極高切削速度
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離子能量範圍*廣:使用超高能量和低能量氬氣氣體離子源,從100 eV到16 keV
使用同一儀器快速進行溫和的拋光/清潔
全自動離子源設置和離子磨機操作
可為熱敏感樣品座選配液氮冷卻
極高切削速度