项目
参数
应用范围
用于3~5～200nmEUV
同时兼容KrF/ArF
配备
压缩空气滤清器、除静电离子风、X-Ray除静电系统
风刀角度
可手动调整高度&角度
风量压力控制
电子式气压控制
主营： 半导体行业专用仪器 光学仪器及设备 测量/计量仪器 除尘设备 粉体焙烧炉 清洗/消毒设备
